September 8, 2026
✦ Analyzed as positive news
SK하이닉스가 2028년 D램 생산 공정에 기존보다 더 정밀한 차세대 EUV 장비인 High NA EUV를 적용할 계획이라고 밝혔어요. 이 장비는 빛을 더 세밀하게 모아 회로를 작게 만들고, 여러 공정을 줄여 차세대 메모리 생산 효율을 높이는 데 쓰여요. 과거 일반 EUV 도입 때도 장비와 소재, 검사 업체의 투자 기회가 커졌던 만큼 이번 계획은 미래 반도체 공급망 전반에 새로운 수요를 만들 수 있어요. 미래반도체에는 당장 매출이 확정된 소식은 아니지만, 메모리 제조사의 장비 투자 확대와 관련 부품 유통 증가로 이어질지 주목해야 해요. 앞으로 SK하이닉스의 실제 장비 발주 시점, 국내 협력사의 참여 여부, 미래반도체의 관련 제품 취급 확대가 중요한 확인 신호예요.